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半导体指常温下导电性能介于导体与绝缘体之间的材料。

半导体材料很多,按化学成分可分为元素 半导体和化合物半导体两大类。

半导体超纯水设备制备工艺：

1、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→粗混合床→精混合床→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→精密过滤器→用水点(≥18mω.cm)(传统工艺)

2、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→edi装置→纯化水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→抛光混床→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥18mω.cm)(新工艺)

3、预处理→反渗透→加药机(ph调节)→中间水箱→第二级反渗透(正电荷反渗膜)→纯水箱→纯水泵→edi装置→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥17mω.cm)(新工艺)

4、预处理→反渗透→中间水箱→水泵→edi装置→纯水箱→纯水泵→紫外线杀菌器→0.2或0.5μm精密过滤器→用水点(≥15mω.cm)(新工艺)

5、预处理系统→反渗透系统→中间水箱→纯水泵→粗混合床→精混合床→紫外线杀菌器→精密过滤器→用水点 (≥15mω.cm)(传统工艺)

半导体生产用超纯水设备工作原理：

超纯水装置供给原水进入edi系统,主要部分流入树脂/膜内部,而另一部分沿膜板外侧流动,以洗去透出膜外的离子,树脂截留水中的容存离子,被截留的离子在电极作用下,阴离子向正极方向运动,阳离子向负极方向运动,阳离子透过阳离子膜,排出树脂/膜之外,阴离子透过阴离子膜,排出树脂/膜之外,浓缩了的离子从废水流路中排出,无离子水从树脂/膜内流出。

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