一、真空气氛炉概述

本系列产品，使用硅碳棒为加热元件，型号齐全，安  全可靠，同时也可满足于不同工艺实验而特殊制造，适用于电子陶瓷与高温结构陶瓷的烧结、玻璃的精密退火与微晶化、晶体的精密退火、陶瓷釉料制备、粉  末冶金、纳米材料的烧结、金属零件淬火及一切需快速升温工艺要求的热处理，是科研单位、高等院校、工矿企业理想的实验和生产设备。

二、真空气氛炉特点

1、炉膛采用陶瓷纤维材料，密度小，重量轻，热熔小，保温效果好。

2、升温速度快，温度的均匀性好，一般为15-20分钟可升到1000℃、1300℃。

3、控制器采用pid控制，可编程30段，具有超温报警功能、温度补偿和温度校正功能。

4、我们采用陶瓷纤维做炉膛材料，陶瓷纤维每公斤单价从几百元到1600元/公斤，普通的耐火砖，仅有几元/公斤。

5、控温仪表具有密码功能，设定参数密码控制。

6、显示视窗：测量温度，设定温度双显示，加热功率光柱显示。

7、快装法兰使用方便，配标准真空备件，真空泵，气氛备件。

三、真空气氛炉参数

设备型号jw-8-13jw-10-13jw-12-13jw-12-13jw-15-13

最高温度1360℃1360℃1360℃1360℃1360℃

控制精度±1℃±1℃±1℃±1℃±1℃

炉膛尺寸（mm）

(w×h×l)200*200*500300*300*630300*300*1260300*300*1470300*300*1680

发热元件φ12*650

硅碳棒φ12*750

硅碳棒真空度66.6pa66.6pa66.6pa66.6pa66.6pa

冷态压升率≦10～20pa/h≦10～20pa/h≦10～20pa/h≦10～20pa/h≦10～20pa/h

最大功率12kw30kw60kw80kw100kw

温控方式  可控硅模块自控

注：可根据用户要求另行设计制造，更多规格及参数和详细技术方案请来电咨询！