产生的废气主要成分：硫醇类，酮    类，醚类，酚类，脂肪酸  类

制药厂在生产过程中的反应釜投料、离心洗涤、冷凝回收、真空干燥、常

压蒸馏、中转罐和储罐、固废堆放场都会产生带有异味的有机废气。（1）反应釜

排气：呈间断性无组织排放，排放源强波动范围大。主要污染来自挥发性溶剂  以

及反应过程产生的挥发性物质。一般反应釜排气经过冷凝后排放，冷凝介质大多

为冷却水，少量为冷冻盐  水。对于低沸点、易挥发的化合物而言，尾气中的化合

物浓度仍明显超标。（2）溶剂  回收过程冷凝尾气：即冷凝过程的不凝气，呈连续

性无组织排放。主要有挥发性溶剂  的饱和蒸汽和气体低沸化合物。一般排气量少，

但浓度较高。（3）人工投料、卸料过程产生的无组织废气。呈间断性面源无组织

排放，来自挥发性的化合物，包括溶剂  、原料。制药厂废气排放特征如下：污染

源数量多，污染成分复杂，排放浓度较高，多呈阵发性、无组织排放。

深圳市晶灿环保设备有限公司主要以光催化氧化技术为核心发展领域，自主开发、设计和生产lco系列废臭气体光催化净化设备、lcr系列光催化室内废气除臭循环净化系统、lca系列光催化空气净化设备，lcd系列光催化消毒杀菌设备、lcy系列预处理设备等产品，同时提供环保技术咨询和技术改造、产品租售及配件选型等方面的服务。光催化净化是基于光催化剂  在紫外线照射下具有的氧化还原能力而净化污染物。利用光催化净化技术去除空气中的有机污染物具有以下特点：

1、直接用空气中的氧气做氧化剂  ，反应条件温和（常温 常压）

2、可以将有机污染物分解为二氧化碳和水等无机小分子，净化效果彻底。

3、半导体光催化剂  化学性质稳定，氧化还原性强，成本低，不存在吸附饱和现象，使用寿命长。

光催化净化技术具有室温深度氧，二次污染小，运行成本低和uvd波段紫外线光照射在纳米钛催化网网等优点，所以光催化特别合适室内挥发有机物的净化，在深度净化方面显示出了巨大的应用潜力。

光催化氧化是在外界可见光的作用下发生催化作用,光催化氧化反应是以半导体及空气为催化剂  ，以光为能量，将有机物降解为co2和h2o。本公司采用的半导体是目前反应效率最高的纳米tio2光催化剂  ,经过特殊处理后使用,达到理想效果。

在光催化氧化反应中，通过紫外光照射在纳米tio2光催化剂  上产生电子-空穴对，与表面吸附的水份（h2o）和氧气（o2）反应生成氧化性很活波的氢氧自由基（oh-）和超氧离子自由基（o2-、0-）。能够把各种废臭气体如醛  类、苯  类、氨类、胺  类、酚类、氮氧化物、硫化物、其它碳氢化合物及其它voc类有机物在光催化氧化的作用下还原成二氧化碳（co2）、水（h2o）以及其它无毒无害物质，去除异味的同时还可以起到消毒杀菌的功效，由于在光催化氧化反应过程中无任何添加剂  ，所以不会产生二次污染。

产品应用范围：产品广泛应用于机械加工、电子、生物制药、化工、食品、饲料、石油化工、污水处理、垃圾发电、印刷、橡胶塑料、皮革、家俱、汽车制造、酒店、商场、医  院等行业的废气处理、臭气处理、尾气处理、异味净化、空气净化、消毒杀菌等，是国内先创新和更专业的光催化氧化净化设备供应商和技术服务商。